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Abegg, Richard: Ueber eine wahrscheinliche Ursache der photochemischen Induction bei Halogensilberemulsionen
DOI Seite / Zitierlink:https://doi.org/10.11588/diglit.32120#0031
Ueber eine wahrscheinliche Ursache u. s. w. II
Die mikroskopische Prüfung mit kurzfocalen Objectiven
ergibt, dass die Körner bei der glasseitig belichteten Platte
in allen Tiefen der Schicht nahe gleichmässig vertheilt sind,
währerid sie bei der gewöhnlich belichteten fast ausschliesslich
in der Oberfläche liegen. Der Unterschied ist so auffallend,
dass man die beiden Belichtungsarten mit Sicherheit daran
erkennen kann.
Ebenfalls im Einklang mit obigen Ueberlegungen steht
der Befund, dass diese geschilderten Unterschiede um so
deutlicher werden, je kürzer die Belichtung ist, während sie
bei längeren Expositionen kaum mehr wahrzunehmen sind.
Es muss übrigens beachtet w 7erden, dass ähnliche Effecte
allein von der Entwickluug herriihren könnten. Da nämlich
sowmhl bei den normal, wie bei den glasseitig belichteten
Platten der Entwickler von der freien Oberfläche her ein-
dringt, so hat er im letzteren Falle eine gewisse Zeit nöthig,
bis er zur Stelle stärkster Lichtwirkung (direct am Glas)
durchgedrungen ist, während er im ersteren Falle sofort,
also mit einem Zeitvorsprunge, seine Arbeit beginnt. Nimrnt
man dann beide Platten gleichzeitig aus dem Entwrickler, so
ist die Wirkungszeit desselben in der That um die Durch-
driugungszeit der Schicht verschieden an der Stelle, wo die
Hauptlichtwrirkung localisirt ist; diese Ungleichheit wird jedoch
schon durch das Auswaschen des Entwicklers nahezu wieder
ausgeglichen, da auch das Waschwasser den Entwickler in
den Tiefen der Schicht später entfernt, als an der Oberfläche.
Die Unterschiede werden aber dann auch theoretisch uner-
heblich, wenn man Standentwricklung 1) benutzt, so dass die
Entwicklungszeit sehr lang gegen die Eindringungszeit ist.
Dadurch wird auch das Bedenken beseitigt, dass bei den
von der Oberfläche her (normal) belichteten Platten die rapide
Abnahme der Körner in die Tiefe daher rührt, dass diese
tieferen Schichten nur von Entwdcklersubstanz erreicht wird,
clie in den höheren Schichten durch Entwicklungsleistung
entkräftet ist, w rährend im Fall der glasseitigen Belichtung
die gleichinässige Kornvertheilung dadurch zu Wege gebracht
wrnrde, dass die oberen Lagen mit schwachem Lichteffect
durch frischen Entwickler intensiv, die tieferen Lagen mit
stärkerem Lichteffect durch erschöpften Entwrickler schw rächer
hervorgerufen w rerden, was ersichtlich als Entwickler-
diffusion in die Schicht zu analogen Resultaten führen
könnte, wrie sie obeu als Wirkung der H alogendiffusion
aus der Schicht aufgefasst w'urden.
i) Siehe Luther, „Chem. Vorgänge d.Photographieü Knapp, Halle 1899.
Die mikroskopische Prüfung mit kurzfocalen Objectiven
ergibt, dass die Körner bei der glasseitig belichteten Platte
in allen Tiefen der Schicht nahe gleichmässig vertheilt sind,
währerid sie bei der gewöhnlich belichteten fast ausschliesslich
in der Oberfläche liegen. Der Unterschied ist so auffallend,
dass man die beiden Belichtungsarten mit Sicherheit daran
erkennen kann.
Ebenfalls im Einklang mit obigen Ueberlegungen steht
der Befund, dass diese geschilderten Unterschiede um so
deutlicher werden, je kürzer die Belichtung ist, während sie
bei längeren Expositionen kaum mehr wahrzunehmen sind.
Es muss übrigens beachtet w 7erden, dass ähnliche Effecte
allein von der Entwickluug herriihren könnten. Da nämlich
sowmhl bei den normal, wie bei den glasseitig belichteten
Platten der Entwickler von der freien Oberfläche her ein-
dringt, so hat er im letzteren Falle eine gewisse Zeit nöthig,
bis er zur Stelle stärkster Lichtwirkung (direct am Glas)
durchgedrungen ist, während er im ersteren Falle sofort,
also mit einem Zeitvorsprunge, seine Arbeit beginnt. Nimrnt
man dann beide Platten gleichzeitig aus dem Entwrickler, so
ist die Wirkungszeit desselben in der That um die Durch-
driugungszeit der Schicht verschieden an der Stelle, wo die
Hauptlichtwrirkung localisirt ist; diese Ungleichheit wird jedoch
schon durch das Auswaschen des Entwicklers nahezu wieder
ausgeglichen, da auch das Waschwasser den Entwickler in
den Tiefen der Schicht später entfernt, als an der Oberfläche.
Die Unterschiede werden aber dann auch theoretisch uner-
heblich, wenn man Standentwricklung 1) benutzt, so dass die
Entwicklungszeit sehr lang gegen die Eindringungszeit ist.
Dadurch wird auch das Bedenken beseitigt, dass bei den
von der Oberfläche her (normal) belichteten Platten die rapide
Abnahme der Körner in die Tiefe daher rührt, dass diese
tieferen Schichten nur von Entwdcklersubstanz erreicht wird,
clie in den höheren Schichten durch Entwicklungsleistung
entkräftet ist, w rährend im Fall der glasseitigen Belichtung
die gleichinässige Kornvertheilung dadurch zu Wege gebracht
wrnrde, dass die oberen Lagen mit schwachem Lichteffect
durch frischen Entwickler intensiv, die tieferen Lagen mit
stärkerem Lichteffect durch erschöpften Entwrickler schw rächer
hervorgerufen w rerden, was ersichtlich als Entwickler-
diffusion in die Schicht zu analogen Resultaten führen
könnte, wrie sie obeu als Wirkung der H alogendiffusion
aus der Schicht aufgefasst w'urden.
i) Siehe Luther, „Chem. Vorgänge d.Photographieü Knapp, Halle 1899.