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Hochschule für Industrielle Formgestaltung [Editor]
Designtheoretisches Kolloquium — 9.1985

DOI article:
Albrecht, Jürgen: Anleitung für Flächengestalter zur rechnerunterstützten Musterproduktion mit dem System DECOS 1.0
DOI Page / Citation link: 
https://doi.org/10.11588/diglit.31833#0367

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MUSTER

Die Bilder MUS 9 und 10 betreffen die Spezialfälle (DD) und (00).

Der Fall (DD) tritt immer dann auf, wenn kein Rapport in daa
Muster eingesetzt wird. Dabei ist unerheblich, ob eine Transfor-
mation und/oder eine Montage vorhanden ist, oder nicht. In jedem
Pall gilt die Beziehung MOTIV = MUSTER (s. Bild MUS 9).

Bild MUS 9 = HEL1 + EMTY + OLGA Bild MUS 10 = EMTY + R5x5 + OLGA
+ ALEX + MUSA + ALEX + MUSA

PALL (DD) PALL (C0)

Wird bei der Generierung im PROZESSMODUS PICT für das Motiv EMTY
eingegeben, so akzeptiert das System auch leere Flächen als Motiv.
Diese Tatsache kann bei Objekten vom Typ FINA und COMP bewußt
ausgenutzt werden.

Wird aber in der gesamten Generierungsvorschrift kein Motiv,
sondern nur EMTY eingesetzt, so wird die Generierungsvorschrift
vollständig vom System abgearbeitet (Rechenzeit !), das Ergebnis
ist aber ein "leeres Muster", d.h, eine leere Fläche mit Passer-
punkten. Die Fälle (A0) und (B0) sind identisch und zeigen vier
Passerpunkte. Beim Fall (C0) sind die Passerpunkte der entspre-
chenden Montage zu sehen (s. Bild MUS 10).

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