Jahrbuch für Photographie und Reproduktionstechnik (12.1898)

Exposition und Entwicklung.
eine merkliche Temperatur-Erhöhung der Platten angezeigt
haben.
Ich mache meine zahlreichen Collegen auf diesen Vor-
gang aufmerksam, den ich, nachdem der erste Aerger vorüber
war, durchaus nicht bedauert habe, da er für mich wie für
alle, die sich mit photographischen Arbeiten beschäftigen,
eine erneute Mahnung darstellt, darauf zu achten, dass das
benutzte Material sich in gutem Zustande befindet.

Exposition und Entwicklung.
Von Josef Schwarz, Oberbergcommissär in Sarajevo, Bosnien.

Im Anschluss an meinen Artikel im vorigen Jahrgang
des „Jahrbuchs für Phot.“ will ich die Expositions- und Ent-
wicklungszeit bei künstlichem Lichte auseinandersetzen.
Wird mit E die Zeit der Exposition bei künstlichem
Lichte in der Entfernung d, mit 3- die"Empfindlichlieit der
Trockenplatte, bezogejT’äüFdieses künstliche Licht, mit z die
Zahl, welche, nach der Belichtung im Scalenphotonieter, durch
die darauf folgende Entwicklung noch hervortritt, bezeichnet,
so wird für die erste Papierlage

E} = —
u
und für z Lagen E = — (19)
I 3
mit Rücksicht auf die Gleichung (4) gt — je

Da die künstlichen Lichtquellen nicht immer ein dem
Tage ähnliches Licht besitzen, empfiehlt es sich, dieses a auf

empirischem Wege zu bestimmen.
Verbindet man die Gleichunger
. , nxl2.bc
so wird s =-ui
gte
s nxloPc . g‘t‘E
3 gte zc
Wenn man daher ein und
platten in der Camera sowohl
photometer exponirt und mit
wird man mit genügender Seb
Objectiv und Photometer erziele

(2) und (20) mit einander,
zc
s nxl2.bg't‘E
<3 gtzz
dieselbe Sorte von Trocken-
ais auch unter dem Scalen-
gleichem Entwickler (c) ruft,
ärfe das Verhältniss zwischen
1. Die Dicke des Photometer-

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