Jahrbuch für Photographie und Reproduktionstechnik (15.1901)

460

Didaktik der Raster-Photographie.

grösserung der durch die Vorexposition erzielten „Tiefpunkte“
bewirken konnte, ebensowenig kann die zur Nachexposition
in Amvendung kommende grössere Blende eine Punkt-
vergrösserung in den Halbtönen verursachen, da die mittels
derselben durchgeführte Exposition so kurz bemessen wird,
dass eine genügende Einwirkung der Halbschattenschnitte auf
die Platte nur an jenen Stellen stattfinden kann, w relche den
hellsten Tönen des Originales entsprechen. Was den Du'rch-
messer der hierbei anzuwendenden Blendengrössen betrifft,
so werden dieselben in der Regel so gewählt werden müssen,
dass die mit ihnen benöthigten Belichtungszeiten — mit der
Blende für die Vorexposition beginnend — sich wie 8:2:1
verhalteu. Dass und warum bei Vornahme der Nachbelichtung
in der Praxis häufig Blenden mit viereckigem Ausschnitte
vorgezogen werden, wurde schon früher erw rähnt. Nimmt
man nun dasselbe Original, welches zur zw reiten Versuchs-
aufuahme benutzt w rurde, noch einmal auf, und zwar mit
richtigem Blendemvechsel und entsprechenden Expositions-
zeiten, so wird sich ein Autotypienegativ ergeben, dessen Ab-
stufungen in den Punktgrössen unbedingt bessere sein w rerden
als bei der Aufnahme mit nur einer Blende. Warum nun in
letzterem Falle die Punktvariation nur eine beschränkte seiu
kann, basirt also auf dem Umstande, dass das Verhältniss des
Ivernpunktdurchmessers zur Stärke des umgebenden Saumes
für die ganze Dauer der Belichtung das gleiche bleibt und
daher eiue Differenzirung in den Deckungs- und Grössen-
verhältnisseu der Puukte — abgesehen von den späteren Ver-
stärkungs- uncl Aetzwdrkungen — ausschliesslich von den
Lichtmengen abhängen muss, w 7elche von den verschiedenen
helleu und dunklen Stellen des Originales ausgesendet werden.
Bei Aufnahmen mit Blendenw'eclisel aber sind für jede Blende
Kernpunkt- und Saumdurchmesser verschieden proportiouirt,
w 7odurch für die Bildung unterschiedlicher Punktgrössen ein
neuer Factor von ausserordentlicher Bedeutung in Rechnung
kommt. Dass endlich auf die zu w^ählenden Blendengrössen
der Rasterabstand grossen Eiufluss ausübt, ist ohne Weiteres
in die Augen springend, wenn man sich in den Fig. 197, 198
und 199 die empfindliche Schicht nicht in P, soudern in Px oder
P2 denkt. Fiir jede Rasterliniatur ergibt sich natürhch bei
Anwendung gewisser Blenden ein bestimmter Abstand als der
günstigste („normaler“ Rasterabstand), und wird derselbe
immer um so grösser seiu, je gröber die Liniatur des an-
gfsvandten Rasters ist. Der Anfänger macht zur genauen
Orientirung über die Wirkung variirter Rasterabstände am
besten eine Serie von Aufnahmeu ein und desselben Originales